2008
International Conference on Simulation of
Semiconductor Processes and
Devices (SISPAD 2008)という国際会議が、9月9日〜11日まで、日本の箱根で開催され、本校専攻科1年の山中君が、研究成果を発表しました。
この国際学会は半導体プロセスと半導体デバイスのシミュレーションに関する国際会議で、「Ion
Implantation Model for Channeling through
Multi-Layers」という題で発表されました。指導教授は西先生。